Podobnie jak w poprzednich latach najwięcej miejsc ma do zaoferowania Politechnika Wrocławska. Na chętnych czeka 3652 miejsc na stacjonarnych studiach magisterskich. Nabór potrwa do 9 lutego. Kandydaci mają do wyboru 54 kierunki, w tym 19 w języku angielskim.
- Przygotowaliśmy łącznie 3497 miejsc na studiach stacjonarnych oraz 155 na kierunkach niestacjonarnych - mówi Anetta Stypułkowska, kierowniczka Działu Rekrutacji. - Spodziewamy się, że największym zainteresowaniem kandydatów będą się cieszyły, wzorem ubiegłych lat, informatyka, mechanika i budowa maszyn oraz budownictwo - dodaje.
W tym roku pierwszy raz prowadzona będzie rekrutacja na studia magisterskie na geodezji i kartografii oraz technologii ochrony środowiska.
Nowością jest również danologia - specjalność na kierunku informatyka.
- W przyszłości tzw. danolodzy będą potrafili pozyskiwać wiedzę oraz użyteczne informacje z wielkich zasobów danych zgromadzonych w systemach komputerowych - wyjaśnia Stypułowska.
Na Uniwersytecie Wrocławskim ruszył nabór na stacjonarne studia na kierunku matematyka. Na studiach licencjackich dostępne jest 120 miejsc, a na magisterskich 100. Studia drugiego stopnia ruszą także na informatyce i to w dwóch wariantach. Na studia dwuletnie przyjęte zostaną 33, a na półtoraroczne 43 osoby. Kandydaci mogą rejestrować się od 20 grudnia.
Rekrutacja zimowa odbędzie się także na Wydziale Inżynieryjno-Ekonomicznym Uniwersytetu Ekonomicznego. Zapisywać można się na studia drugiego stopnia na kierunku zarządzanie i inżynieria produkcji, w ramach którego realizowane będą takie specjalności jak przedsiębiorczość i innowatyka, zarządzanie produkcją i usługami, zarządzanie rozwojem, zarządzanie technologią. Nabór rozpocznie się 4 stycznia i potrwa do 13 lutego.
Nabór na studia na Uniwersytecie Ekonomicznym potrwa do 15 lutego. Łącznie na przyszłych magistrów czeka przeszło 1500 indeksów. W tym roku po raz pierwszy poza rekrutacją na studia drugiego stopnia uruchomiono także dodatkowy nabór na studia pierwszego stopnia na inżynierii środowiska.
